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金屬總量控制的新一代OES分析方法

   日期:2019-12-09

金屬行業(yè)從業(yè)者的經(jīng)營狀況正處于凌冽寒冬時期。在冶煉使用廢料的過程中,鑄造廠和煉鋼廠所承受的壓力只增不減。供應(yīng)鏈變得愈加復(fù)雜,甚至可能更加不可靠。痕量元素的立法越來越嚴格。因此,為確保持續(xù)生產(chǎn)符合所有規(guī)范和立法的良好的盈利產(chǎn)品,鑄造廠和金屬加工企業(yè)需要測量和控制進出其場所的材料。這可能會產(chǎn)生問題。


為符合材料規(guī)范,必須測試所有事項?,F(xiàn)行規(guī)范已超過許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。高級OES光譜儀對許多企業(yè)而言遙不可及,可能不適合高產(chǎn)量生產(chǎn)環(huán)境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問題而應(yīng)運而生。


介紹OE750:專為全新級OES分析而設(shè)計

OE750是一款訂創(chuàng)性設(shè)備。這款OES光譜儀具有比較級儀器的性能,但其購買價格優(yōu)惠,運行成本合理。目前,其是同類產(chǎn)品中能夠?qū)崿F(xiàn)全新級OES分析的光譜儀,例如:

此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠無需出于成本考量而降低性能標準。對于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬廠而言,OE750以具有成本效益的價格,提供全新級OES分析。


質(zhì)量控制,符合標準

OE750在同類產(chǎn)品中具有比較好的光學(xué)分辨率,并涵蓋金屬中元素的整個光譜,能提供某些比較低檢出限。此性能通過構(gòu)思新光學(xué)概念和發(fā)展其他技術(shù)創(chuàng)新而實現(xiàn),例如新型密封火花臺和火花放光源。


額外優(yōu)點(例如:啟動速度加快,維護間隔縮短)確保光譜儀支持高產(chǎn)量生產(chǎn)和100% 的PMI質(zhì)量保證計劃。


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