新品 | 日立分析儀器推出OE750 — 新一代高性能OES光譜儀，用于全面金屬分析控制

   日期：2019-12-05

中國，2019年12月5日：日立分析儀器（Hitachi High-Tech Analytical Science）是日立高新技術(shù)公司（TSE：8036）旗下的一家全資子公司，主要從事分析和測量儀器的制造和銷售，其已推出一款開創(chuàng)性的OE750型新型直讀光譜儀，用于鑄造廠和金屬生產(chǎn)中，要求嚴格的金屬規(guī)格分析。

由于復(fù)雜的供應(yīng)鏈，以及作為基礎(chǔ)材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加，鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質(zhì)和痕量元素時，面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有前所未有的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜，并實現(xiàn)對某些元素的比較低檢出限。因此，此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平，可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供分析。

OE750實現(xiàn)高極分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。其中有四項專利正處于申請狀態(tài)。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標準中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。

OE750是鋁鑄件的理想光譜儀，因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結(jié)構(gòu)改造。創(chuàng)新性光學(xué)設(shè)計能實現(xiàn)更短的啟動時間，因為光學(xué)系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質(zhì)量的工廠實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學(xué)設(shè)計之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設(shè)計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并很好的降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤?？蛇x的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。

日立OES產(chǎn)品業(yè)務(wù)開發(fā)經(jīng)理Wilhelm Sanders表示：“在過去，鑄造廠和金屬加工企業(yè)在購買儀器時，不得不在高極分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇。現(xiàn)在有了新型OE750，他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供的金屬分析。”

高性能金屬分析，價格合理

新型OE750是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產(chǎn)品中比較低的檢出限。

由于行業(yè)法規(guī)日益嚴格，供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使用廢料作為基礎(chǔ)材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在比較低ppm范圍內(nèi)。在過去，這一級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。

這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和處理元素，如鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和質(zhì)量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。

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